※ Utilização do equipamento
O grande forno de nitruração de íons de duplo cátodo de elevação plana é um tipo de equipamento utilizado para o tratamento de nitruração superficial de materiais metálicos.
※ Características estruturais
※ Princípio de funcionamento
※ Parâmetros técnicos
※ Vantagem de desempenho
Parâmetro técnico
| Voltagem de saída | 0-1000V ajustável continuamente |
| Corrente máxima de saída | Os diferentes modelos variam, variando de 30A a 240A |
| frequência | É geralmente numa banda de baixa frequência, geralmente abaixo de 100 Hz, o que pode tornar o bombardeio de íons na superfície da peça mais uniforme e reduzir os danos à peça. |
| Limitador de vácuo | Normalmente até 10−1Pa~10−3Pa, para proporcionar um bom ambiente de vácuo para nitruração iónica, reduzir a interferência do gás de impureza no processo de nitruração |
| Taxa de aumento da pressão | ≤ 0,67 Pa/h, refletindo o desempenho de vedação do corpo do forno e a estabilidade do sistema de vácuo |
| Temperatura máxima de funcionamento | 700°C, pode lidar com materiais especiais ou requisitos de processo especiais com alta temperatura de nitruração. |
| Precisão do controlo da temperatura | + / - 1 °C |
| Capacidade máxima de carga do forno | Diferentes tipos de capacidade de carga do forno é diferente, pode ser personalizado de acordo com as necessidades do cliente |