금속 표면을 질소화하기 위한 낮은 주파수 초퍼 이온 질소화 오븐

낮은 주파수 초퍼 이온 질산 오븐은 금속 표면을 질산시키는 데 사용되는 장비의 일종입니다.

• ※ 장비 사용
• 낮은 주파수 컷퍼 이온 질산 오븐은 금속 표면을 질산시키는 데 사용되는 장비의 일종입니다.
• ※ 작동 원리
• · 전원 공급 장치의 작동 원리: 낮은 주파수 칩 펄스 전원 공급 장치가 에너지 원으로 사용됩니다.출력 펄스의 주파수와 작업 주기는 출력 펄스 신호의 저주파수 칩처리를 통해 정확하게 제어 할 수 있습니다.이온 질소화 과정에서 이 전원 공급원은 전극 사이에 안정적이고 조절 가능한 전기장을 생성하여 오븐 내의 질소를 포함하는 가스를 이온화하여 플라스마를 형성 할 수 있습니다.
• · 이온 질화 원리: 진공 환경에서, 오븐은 질소, 암모니아 등 질소를 함유 한 기체로 채워집니다. The low-frequency chopper pulse power source applies an electric field between the anode and cathode to ionize the nitrogen-containing gas and produce charged particles such as nitrogen ions and electrons to form plasma질소 이온은 전기 필드의 작용으로 가속화되어 금속 작업 조각의 표면을 고속으로 폭격합니다.이온의 운동 에너지는 열 에너지로 변환되어 작업 부품을 가열합니다., 동시에 질소 이온은 질소 원자로 분해하기 위해 작업 조각 표면에 전자를 얻으며, 질소 원자는 금속 표면에 침투하여 내부로 퍼집니다.금속 원자와의 화학 반응, 금속 표면에 질산층을 형성합니다.
• ※ 기술 특징
• · 좋은 질산 효과: 낮은 주파수 칩 기술은 이온의 에너지와 폭격 주파수를 더 정확하게 제어 할 수 있습니다.그래서 질소 원자 금속 표면 침투 더 균일, 균일한 두께, 밀도가 높은 질산층을 얻기 위해, 효과적으로 금속 표면 경화, 마모 저항, 부식 저항 및 피로 성능을 향상시킵니다.
• · 높은 공정 유연성: 다른 금속 재료, 작업 조각 모양 및 크기 및 nitriding 공정의 특정 요구 사항에 따라,유연하게 낮은 주파수 chopper 펄스 전원 공급의 매개 변수를 조정, 예를 들어 펄스 너비, 주파수, 작업 주기 등, 다양한 사용자 요구 사항을 충족시키기 위해 다양한 질소화 과정을 달성하기 위해.
• · 에너지 절감 및 높은 효율성: 전통적인 이온 질산 오븐 전력 공급 장치와 비교하면 낮은 주파수 칩 펄스 전력 공급 장치가 전기 에너지를 더 효율적으로 사용할 수 있습니다.에너지 손실을 줄이세요, 에너지 사용 효율을 향상시키고 생산 비용을 줄입니다.
• · 좋은 안정성: 낮은 주파수 초퍼 기술은 전원 공급 장치의 출력 펄스 신호를 더 안정적으로 만듭니다.이온 질소화 과정에서 전압 변동과 전류의 영향을 줄여줍니다., 따라서 장비 작동의 안정성과 신뢰성을 향상시키고 질산 과정의 반복성과 일관성을 보장합니다.
• · 완벽한 보호 기능: 일반적으로 과전류 보호, 과전압 보호, 과열 보호 및 기타 보호 기능이 장착됩니다.장비가 비정상적일 때 시간에 전원을 끊을 수 있습니다., 장비와 작업 조각의 안전을 보호하고 장비의 사용 수명을 연장합니다.
• ※ 적용 영역
• 기계 제조 산업: 각종 기계 부품의 표면 강화에 널리 사용됩니다.이 부품의 표면 경화 및 마모 저항을 향상시킬 수 있습니다., 마찰 계수는 감소 할 수 있으며 부품의 사용 수명이 연장 될 수 있으며 기계 제품의 품질과 성능이 향상 될 수 있습니다.
• · 자동차 산업: 자동차 엔진 부품, 변속기, 차체 부품 등을 표면 처리하는 데 사용됩니다.그것은 높은 온도와 같은 혹독한 작업 조건 하에서 자동차 부품의 성능과 신뢰성을 향상시킬 수 있습니다, 고압과 고속, 부품의 마모와 노폐를 줄이고 자동차의 유지 보수 비용을 줄이고 자동차의 전반적인 품질을 향상시킵니다.
• · 항공우주 분야: 항공우주 분야에서 초연금, 티타늄 합금 및 기타 재료의 일부를 질소화합니다.그것은 높은 온도와 같은 극단적인 환경에서 부품의 성능을 향상시킬 수 있습니다., 고 진공 및 강한 방사선, 가벼운 무게, 높은 강도 및 높은 신뢰성에 대한 항공 우주 부품의 요구 사항을 충족합니다.
• · 다른 분야: 전자 산업, 의료 장비, 석유 화학 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다. 예를 들어,그것은 전자 산업에서 전자 부품의 표면 처리를 위해 사용되며, 소화 저항성과 전기 전도성을 향상시킵니다.; 의료기기 분야에서 의료기기의 표면 강화에 사용되며, 생체 호환성 및 부식 저항성을 향상시킵니다.

• 기술 매개 변수

• 출력 전압	0-1000V 연속 조절
  최대 출력 피크 전류	다른 모델은 30A ~ 200A 범위에서 다릅니다.
  주파수	일반적으로 100Hz 이하의 낮은 주파수 대역에 있습니다.이온의 폭격을 작업 조각 표면에 더 균일하게 만들고 작업 조각에 대한 손상을 줄일 수 있습니다..
  제한 진공	일반적으로 6.7Pa까지, 낮은 제한 진공은 오븐에 가스 불순물을 줄일 수 있으며 이온 질소화을위한 순수한 환경을 만듭니다.
  압력 상승 속도	≤1.3×10−1Pa/min (1×10−3mmHg/min)
  최대 작동 온도	650°C, 그것은 높은 질산 온도에서 특수 재료 또는 특별한 공정 요구 사항을 처리 할 수 있습니다.
  온도 조절 정확도	+ / - 1 °C
  최대 오븐 부하 용량	다양한 종류의 오븐 로딩 용량은 다릅니다, 고객의 필요에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다