※ 装置の使用用途:
本炉は、油焼入れ、水焼入れ、ガス焼入れ、焼戻し、焼鈍、ろう付けなどの熱処理プロセスを完了できます。
※ 装置の特徴:
HZCD型三室多目的真空炉およびHZCD型水平三室多目的真空炉は、加熱室、焼入れ油槽、焼入れ水槽、空冷装置などで構成されています。
装置の利点:急速な加熱と冷却を実現でき、酸化、脱炭、浸炭がなく、表面のリン片を除去し、脱脂・脱ガスなどの効果が得られるため、表面の光輝清浄効果が得られます。
※ 設計および製造認証:
1. 指標は、工業炉の国家規格に従って設計および製造されています。
2. 各コンポーネントの性能試験を実施し、報告書を発行します(顧客の現地事前承認をサポート)。
3. 装置の輸出は、輸出に関する国際規格に適合しています。
技術パラメータ(HZCD型)
電力 | 要件に応じてカスタマイズ可能 | 定格温度 | 1300℃ |
熱処理の種類 | 油焼入れ、水焼入れ、ガス焼入れ、焼戻し、焼鈍、ろう付けなどの熱処理プロセス。 | 限界真空 | 6.6*10^-3~4*10^-1 Pa |
加熱ゾーン | 要件に応じて開発可能 | 空冷圧力 | 2*10^5 Pa |
型番 | WZSC,HZSC | 装入量 | 加熱ゾーンのサイズと電力要件に応じてカスタマイズ |